普达特科技(00650.HK) -0.010 (-3.636%) 公布,公司一台12英寸LPCVD炉管设备成功通过客户验收,该设备应用於LP -Si N薄膜沉积工艺。此外,另一台12英寸ALD炉管设备在客户端处於验证过程中,该设备应用於ALD -Si N/ALD -Si CN薄膜沉积工艺,兼容Thermal/Plasma模式。
此外,公司半导体单片清洗设备亦持续扩大客户基础与量产经验。自去年10月至今,已有五台6至12英寸CUBE单片清洗设备成功於多家高质量客户处通过验收,应用於Si C/功率器件/数模混合芯片等领域,其中两台设备为重复订单。
未来,公司将继续完成半导体先进炉管设备与清洗设备的交付与验收,持续扩大高质量客户基础,并充分发挥公司技术优势,推动先进半导体设备国产化取得进一步突破。(sl/da)(港股报价延迟最少十五分钟。)
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